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2030년까지 133조원 투자 … 삼성전자 '비메모리 1위' 비전 발표(종합)
R&D 및 생산시설 확충에 투입, 전문인력 1만5000명 고용 창출
2019-04-24 20:00:00 2019-04-24 20:00:00
[뉴스토마토 권안나 기자] 메모리 반도체 세계 1위 업체인 삼성전자가 올해부터 매년 11조원에 달하는 돈을 비메모리 반도체 부문에만 투자해 2030년 글로벌 톱에 오르겠다는 청사진을 제시했다.
 
삼성전자는 24일 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야에 133조원을 투자해 연구개발 및 생산시설을 확충하고, 전문 인력 1만5000명을 채용한다는 내용을 골자로 한 ‘반도체 비전 2030’ 계획을 발표했다. 지난해 삼성전자 전체 시설투자액 29조4000억원, 연구개발(R&D) 투자가 1조8400억원이었으며, 이 가운데 반도체 투자비는 23조7000억원이었다. 이와 비교해보면 향후 연간 전체 반도체 투자 규모의 절반에 가까운 평균 11조원을 투자하겠다는 것으로, 앞으로 회사 차원에서 비메모리 반도체 사업에 역량을 집중할 것임을 드러냈다.
 
화성캠퍼스 EUV 라인 전경. 사진/삼성전자
 
비전에 따르면, 삼성전자는 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투입한다. 막대한 자금이 투입되는 만큼 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에도 기여할 것으로 기대된다. 또 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향을 미칠 전망이다.
 
삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV(극자외선) 라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진한다. 또 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만5000명을 채용할 예정이다. 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 기대된다.
 
삼성전자는 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(Fabless·반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(Design House·설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력 강화에도 기여하겠다는 목표를 내놨다.
 
국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스 IP, 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 삼성전자가 개발한 IP(Intellectual Property·설계자산)를 호혜적으로 지원한다. 보다 효과적으로 제품을 개발할 수 있도록 삼성전자가 개발한 설계/불량 분석 도구 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다. 
 
소품종 대량생산 체제인 메모리 반도체와 달리 다품종 소량생산이 특징인 시스템 반도체 분야의 국내 중소 팹리스업체는 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는데 어려움이 있었다.
 
삼성전자는 이러한 어려움을 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해, 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극 지원할 방침이다. 또 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW프로그램을 공정당 연 2~3회로 확대 운영한다. 아울러 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 예정이다.
 
삼성전자 관계자는 “과감하고 선제적인 투자와 국내 중소업체와의 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업 발전에 앞장설 계획”이라고 말했다. 
 
권안나 기자 kany872@etomato.com

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